-【上海水處理設備網www.appstoresolver.com】日前，江蘇發(fā)布《電鍍行業(yè)主要污染物排放規(guī)范（征求意見稿）全文如下：

前 言

本規(guī)范全文強制。

本標準按GB/T1.1-2020給出的規(guī)則起草，電鍍污染物排放規(guī)范》GB21900-2008基礎上制定的江蘇省地方規(guī)范。

為貫徹《中華人民共和國環(huán)境維護法》中華人民共和國水污染物防治法》等法律法規(guī)，加強江蘇省電鍍行業(yè)主要染物排放控制和環(huán)境風險管控，減少重金屬污染，保證人體健康，促進電鍍工藝、污染治理技術和管理水平進步，結合江蘇省的實際情況，制定本標準。

自本規(guī)范實施之日起，江蘇省轄區(qū)內新建企業(yè)、專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠執(zhí)行本標準規(guī)定的水和大氣污染排放限值。自20XX年XX月XX日起，除太湖流域其區(qū)外的其他地區(qū)現(xiàn)有企業(yè)、專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠執(zhí)行本標準規(guī)定的水污染排放限值。自20XX年XX月XX日起，江蘇省轄區(qū)內現(xiàn)有企業(yè)、專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠執(zhí)行本標準規(guī)定的大氣污染排放限值。不再執(zhí)行《電鍍污染物排放規(guī)范》GB21900-2008中的相關規(guī)定。各地可根據當?shù)丨h(huán)境維護需要和經濟與技術條件，由設區(qū)市人民政府批準提前實施本標準。上海GMP純化水設備本標準規(guī)定了江蘇省轄區(qū)內電鍍企業(yè)、專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠的水和大氣污染物排放控制要求、監(jiān)測和監(jiān)督管理要求。本規(guī)范公布實施后，國家修訂相應行業(yè)污染物排放規(guī)范涉及本規(guī)范未作規(guī)定的污染物項目和嚴于本標準時，執(zhí)行國家規(guī)范要求。

本規(guī)范由江蘇省生態(tài)環(huán)境廳提出并歸口。

本規(guī)范主要起草單位：江蘇省環(huán)境科學研究院

本規(guī)范由江蘇省生態(tài)環(huán)境廳提出并歸口。

本規(guī)范為首次發(fā)布。

電鍍行業(yè)主要污染物排放規(guī)范

1范圍

本標準規(guī)定了電鍍企業(yè)、專門處置電鍍廢水集中式污水處置廠的水、大氣污染物排放控制要求。

本規(guī)范適用于現(xiàn)有電鍍企業(yè)、專門處置電鍍廢水集中式污水處置廠的水、大氣污染物排放管理，以及建設項目的環(huán)境影響評價、環(huán)境維護設施設計、竣工環(huán)境維護驗收、排污許可證核發(fā)及其投產后的水、大氣污染物排放管理。

本規(guī)范同樣適用于有電鍍、化學鍍、化學轉化膜生產工序和設施的企業(yè)。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件，僅所注日期的版本適用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。

GB6920水質 pH值的測定玻璃電極法

GB/T7466水質總鉻的測定

GB/T7467水質六價鉻的測定二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T7470水質鉛的測定雙硫腙分光光度法

GB/T7471水質鎘的測定雙硫腙分光光度法

GB/T7472水質鋅的測定雙硫腙分光光度法

GB/T7475水質銅、鋅、鉛、鎘的測定原子吸收分光光譜法

GB/T7484水質氟化物的測定離子選擇電極法

GB11893水質總磷的測定鉬酸銨分光光度法

GB11901水質懸浮物的測定重量法

GB/T11907水質銀的測定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11911水質鐵、錳的測定火焰原子吸收分光光度法上海半導體超純水設備

GB18871電離輻射防護與輻射源平安基本規(guī)范

GB21900-2008電鍍污染物排放規(guī)范

GB8978-1996污水綜合排放規(guī)范

HJ/T84水質 無機陰離子的測定 離子色譜法

HJ91地表水和污水監(jiān)測技術規(guī)范

HJ/T195水質氨氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T199水質總氮的測定氣相分子吸光光譜法

HJ/T341水質汞的測定 冷原子熒光法(試行)

HJ/T345水質鐵的測定 鄰菲啰啉分光光度法(試行)

HJ/T399水質化學需氧量的測定快速消解分光光度法

HJ484氰化物的測定容量法和分光光度法

HJ485水質銅的測定 二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法

HJ486水質銅的測定 2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法

HJ487水質氟化物的測定茜素磺酸鋯目視比色法

HJ488水質氟化物的測定氟試劑分光光度法

HJ489水質銀的測定 3,5-Br2-PA DA P分光光度法

HJ490水質銀的測定 鎘試劑2B分光光度法

HJ493水質樣品的保管和管理技術規(guī)定

HJ494水質采樣技術指導

HJ495水質采樣方案設計技術規(guī)定

HJ535水質氨氮的測定 納氏試劑分光光度法

HJ537水質氨氮的測定 蒸餾-中和滴定法

HJ597水質總汞的測定 冷原子吸收分光光度法

HJ636水質總氮的測定 堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法上海GMP純化水設備

HJ637水質石油類和動植物油類的測定紅外分光光度法

HJ659水質氰化物等的測定真空檢測管-電子比色法

HJ668水質總氮的測定 流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ670水質磷酸鹽和總磷的測定連續(xù)流動-鉬酸銨分光光度法

HJ671水質總磷的測定 流動注射-鉬酸銨分光光度法

HJ694水質 汞、砷、硒、鉍和銻的測定 原子熒光法

HJ700水質 65種元素的測定 電感耦合等離子體質譜法

HJ757水質 鉻的測定 火焰原子吸收分光光度法

HJ776水質 32種元素的測定 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法

HJ819排污單位自行監(jiān)測技術指南 總則

HJ828水質 化學需氧量的測定 重鉻酸鉀法

HJ908水質 六價鉻的測定 流動注射-二苯碳酰二肼分光光度法

HJ985排污單位自行監(jiān)測技術指南 電鍍工業(yè)

HJ548固定污染源廢氣 氯化氫的測定 硝酸銀容量法上海半導體超純水設備

HJ/T27固定污染源排氣中氯化氫的測定 硫氰酸汞分光光度法

HJ/T28固定污染源排氣中氰化氫的測定 異煙酸-吡唑啉酮分光光度法

HJ/T29固定污染源排氣中鉻酸霧的測定 二苯基碳酰二肼分光光度法

HJ/T42固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法

HJ/T43固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ675固定污染源排氣 氮氧化物的測定 酸堿滴定法

HJ692固定源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法

HJ1132固定源廢氣 氮氧化物的測定 便攜紫外吸收法

HJ/T67固定污染源排氣 氟化物的測定 離子選擇電極法

HJ544固定污染源廢氣中硫酸霧的測定 離子色譜法

HJ/T373固定污染源監(jiān)測質量保證與質量控制技術規(guī)范（試行）

江蘇省污染源自動監(jiān)控管理方法》征求意見稿）

江蘇省環(huán)境監(jiān)測管理方法》蘇環(huán)委〔2008〕7號

關于太湖流域執(zhí)行國家污染物排放規(guī)范水污染物特別排放限值行政區(qū)域范圍的公告》環(huán)境維護部公告2008年 第30號）

3術語和定義

下列術語和定義適用于本標準。

3.1

電鍍 electroplating

利用電解方法在鍍件（包括鍍層金屬）外表堆積均勻、致密、結合良好的金屬或合金層的過程。包括鍍前處理（去油、去銹、酸洗等）鍍上金屬層和鍍后處理。

3.2

化學鍍 electrolessplating

無外加電流的情況下借助合適的還原劑，使鍍液中金屬離子還原成金屬，并沉積到鍍件表面的一種鍍覆方法。

3.3

化學轉化膜 chemicconverscoating

鍍件（包括鍍層金屬）表層原子與介質中的陰離子發(fā)生化學氧化或電化學氧化反應，金屬外表生產附著力良好的化學物膜層。化學轉化膜工藝通常包括鈍化、陽極氧化、發(fā)藍等外表處置工藝上海半導體超純水設備。

3.4

單層鍍 monolaycoating

通過一次電鍍，鍍件外表形成單金屬鍍層或合金鍍層的過程。

3.5

多層鍍 multilaycoating

通過兩次或兩次以上電鍍，鍍件（包括鍍層金屬）外表形成兩層或兩層以上鍍層的過程。上海GMP純化水設備

3.6

電鍍排污單位 elecroplpollutemissunit

有電鍍、化學鍍、化學轉化膜等生產工序的排污單位，包括電鍍企業(yè)和有相關生產工序的企業(yè)。

3.7

專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠 centralsewagtreatmentplantspecialtreatwithelectroplwastewater

具有含第一類污染物及氰化物廢水分類收集、預處理設施，專門收集處置電鍍排污單位廢水（不混入其他行業(yè)廢水）集中式污水處置廠。

3.8

集中式工業(yè)污水處置廠 industriwastewattreatmentplant

通過納污管道等方式收集廢水，為工業(yè)排污單位提供廢水集中處置服務并且排水能夠達到相關排放規(guī)范的污水處置廠（不含專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠）

3.9

直接排放 directdisge

排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。

3.10

間接排放 indirectdisge

電鍍企業(yè)向專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠或集中式工業(yè)污水處置廠排放水水污染物的行為（含專門處置電鍍廢水的集中式污水處置廠向集中式工業(yè)污水處置廠排放水污染物行為）

3.11

車間或生產設施廢水排放口 disgoutletofworkshoporproductfacility

含第一類污染物廢水與其他廢水混合前的預處置設施出水口；若含同種第一類污染物的同類污水實行集中預處理，則指未與其他污水混合前的集中預處置設施出水口。上海半導體超純水設備

3.12

排水量 effluentvolume

生產設施或企業(yè)向企業(yè)法定邊境以外排放的廢水量，包括與生產有直接關系或間接關系的各種外排廢水（如廠區(qū)生活污水、冷卻廢水、廠區(qū)鍋爐和電站排水等）

3.13

單位產品基準排水量 benchmarkeffluentvolumperunitproduct

用于核定水污染物排放規(guī)范濃度而規(guī)定的生產單位面積鍍件鍍層廢水排放量上限值。

3.14

排氣量 gavolume

指企業(yè)生產設施通過排氣筒向環(huán)境排放的工藝廢氣量。

3.15

單位產品基準排氣量 benchmarkgavolumperunitproduct

指用于核定廢氣污染物排放濃度而規(guī)定的生產單位面積鍍件鍍層廢氣排放量上限值。

3.16

規(guī)范狀態(tài) standardcondition

溫度為273.15K壓力為101325Pa時的狀態(tài)。本標準規(guī)定的大氣污染物排放濃度限值均以規(guī)范狀態(tài)下干氣體為基準。

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